品名:光学满天星刻字膜 光学人形纹满天星刻字膜 光学编织纹满天星刻字膜
规格:1*100M/卷、50CM*25M/卷、1.37*100M/卷
品牌:CS/AS
厚度:0.2MM
表面效果:人形纹满天星、碎玻璃纹满天星、七彩镭射满天星、石头纹满天星、树枝纹满天星、草苺纹满天星、感光满天星、光学满天星、3D圆圈满天星、拉丝纹满天星、方格纹满天星、马赛克满天星等30几种纹络的满天星效果任君选择。
产品信息
主要成分:聚氨酯
厚度(mm):0.34~0.35
颜色:无色透明
厚度偏差(mm):±0.005
幅宽(mm):0~1500
热熔胶层硬度(邵氏A):65
软化点(℃):90
离型基材:80G格拉辛双硅纸
压力(Mpa):0.35~0.4
压烫时间(s):8~25
春夏压烫温度(℃):145
秋冬压烫温度(℃):155
耐黄变:UV>4级,户外
开放时间(s):8~20
拉伸强度(Mpa):0.32~0.45
剥离强度(KN/m):62.5
耐曲折:弹性强,可拉伸可回缩
持久强度(Mpa):0.32~0.48
粘接材质
尼龙布、化纤布、涤纶布
莱卡布、牛仔布、针织布
涂层布、氨纶布、水洗布
佳吉布、鸟眼布、棉纺布
TC布、植绒、超纤
皮革、网布(三明治)
TPU、PU、PP
耐温性:170度无变化
工艺:雕刻再热转印
加工机器:激光机、刻字机、啤机
特点:七彩效果强,镭射幻彩随光源不断变化,耐折、耐磨、耐干湿磨、耐机洗、牢固度好,色泽柔和美观;品质稳定
原理:表面光滑,膜层之间的界面呈几何分割;膜层的折射率在界面上可以发生跃变,但在膜层内是连续的;可以是透明介质,也可以是 吸收介质;可以是法向均匀的,也可以是法向不均匀的。实际应用的薄膜要比理想薄膜复杂得多。这是因为:制备时,薄膜的光学性质和物理性质偏离大块材料,其表面和界面是粗糙的,从而导致光束的漫散射;膜层之间的相互渗透形成扩散界面;由于膜层的生长、结构、应力等原因,形成了薄膜的各向异性;膜层具有复杂的时间效应。
使用方法:将光学满天星刻字膜放置于刻字机或激光切割上,进行切割,再将多余的废料排掉,最终反向将满天星刻字膜热烫在纺织品上或鞋材上,完成。
1.用刻字机先切割成需要的形状,撕离图案以外的胶膜,切割深度以割入底层胶片10—30 UM、切割的压力160-170GF为佳。
2.撕下保护膜,用烫画机直接转烫在承印物上。
3.转烫温度一般在130摄氏度到155摄氏度,时间为10秒到20秒,压力20—30磅(根据不同材质及要求来定)。
4.可热/冷撕。将表面胶片撕离即可。
应用范围:纺织品、服装、鞋材、运动号码、标志、广告、海报、公司logo等
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