洗发香波用特效去屑止痒剂Heliya ACH


一、物理化学性质


化学名称　　　　　咪唑酚脂肪酸甘油酯


物理状态　　 　　浅黄色至无色透明液体


活性物含量　　　　 ≥ 98%


干燥失重　　　　　 < 1.0% （105℃/2小时）


黏度　　　　　　　　0.81.2Pa.S（20℃）


密度　　　　　　　　1.051.25（20℃）


贮存稳定性　　　　　12个月（室温避光贮存）


毒理　　　　　　　　Heliya ACH 属无毒无害物质。






二、使用方法及用量


应用范围　　　　　洗发香波、护发素及其它洗发护发类产品。


加入方法　　　　　低于50℃时直接加入表面活性剂体系。


建议用量　　　　　 0.3% - 0.5% （W/W）


最小包装　　　　　 25Kg






三、显著特性　　


专为洗发香波设计的新一代特效去屑止痒剂，具有非常高的安全性及有效性；上海合丽亚日化技术有限公司采用现代合成技术及高科技的分离纯化方法生产的 Heliya ACH 具有如下显著特性：


低用量、低成本条件下显著抑制皮脂分泌引起的头皮屑、皮脂分泌物进一步氧化酸败而引起的头皮刺激、头痒及抓挠产生的头皮发炎和红肿；


极低的刺激性及良好的皮肤相容性，无需担心因添加大剂量的去屑剂引起的头皮刺激瘙痒；


对真菌性头皮屑和由细菌等引起头发异味具有显著的抑制作用，使头发清新健康；


对配方的高低温黏度及外观等性能无任何影响；


易于加入配方、无需添加悬浮剂稳定配方；


无需担心因原料、去离子水中含有的金属离子及设备材质影响等造成的洗发香波变色。






特别提示：在通常情况下，头屑是由于皮脂分泌过多、头皮干燥以及精神紧张等因素而造成的综合效应，较少与真菌感染有直接关联。目前针对真菌性头屑的去屑剂（实为抗菌剂）很难对绝大多数普通人群的头屑有效。尤其是秋冬季节，气候干燥，更易引起头痒和头皮屑产生。大多数专家认为真正有效的解决方法应该是同时防止皮脂分泌过多及硬化产生的头屑以及真菌性头屑、头皮瘙痒及头皮发炎问题。 而高剂量使用传统去屑剂如ZPT、OCT及酮糠唑等不但抑制头屑效果甚微，而且还会导致头皮长期发炎而引起头皮习惯性瘙痒、起红疙瘩、红肿硬块、慢性脱发甚至是过敏等问题，同时还易使洗发香波变色、香精变味、体系的黏度、外观不稳定等等。 依靠科技创新，使用特效的去屑止痒剂 Heliya ACH 才是攻克头屑头痒难题的制胜之道。