新型抗皱整理-印后处理-集萃印花网

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新型抗皱整理

集萃印花网 2009-06-01 00:00:00

【集萃网观察】最近，国外将具有碳硅多面体结构的化合物(Poss)引入到聚氨酯体系中，形成了新的纳米复合材料，表现出一系列新的性能。将类似Poss结构的化合物引入到树脂中，在形态记忆整理方面具有优良的性能，尤其对免烫整理中避免强力降低具有显著效果。

将笼状化合物引入到氟碳聚合物高分子上，形成带笼状结构的氟碳聚合物体系，由于笼状结构内部可以捕捉带有阴离子的化合物，因此对染料具有优良络合性，将笼状化合物与染料混合能很好地限制染料的上染，尤其是在精细印花过程中，具有良好的防沾色效应。

国外推出的纳米材料Perfin 03产品也是类似的化合物，从免烫效果看，加入Perfin 03后，耐久压烫性能、强力、甲醛释放量都得到理想的结果．

来源: 印染在线